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國立臺灣大學 應用力學研究所 張建成所指導 賴冠叡的 以數值與實驗探討旋轉流體中泰勒牆與旋轉圓柱之交互影響 （2013），提出等高線地形圖產生器關鍵因素是什麼，來自於池盆渦漩、泰勒渦柱、PIV、螢光顯影、Navier-Stokes方程式。

而第二篇論文國立臺灣海洋大學 河海工程學系 蕭葆羲所指導 陳柏村的 高架式點源重質氣體排放於三座直列式方柱之濃度擴散風洞實驗 （2013），提出因為有 風洞試驗、濃度擴散、重質氣體、溢漏源角度、溢漏源高度的重點而找出了 等高線地形圖產生器的解答。

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以數值與實驗探討旋轉流體中泰勒牆與旋轉圓柱之交互影響

為了解決等高線地形圖產生器的問題，作者賴冠叡 這樣論述：

中文摘要許多在旋轉流豐饒有趣的現象中，科氏力所扮演的關鍵角色尤引人入勝。本文旨在以數值計算與實驗量測分析，探討其中兩種流場結構的互制行為。其一，池盆渦漩為具背景渦度下的一種吸入式渦漩，其強烈的中心渦漩結構與颱風結構十分相似；其二，泰勒柱則為具背景渦度影響下的地形效應，能夠在地形垂直方向產生封閉的流場。以上兩種旋轉流的現象皆已為文獻廣泛地探討，然而從事兩者間互制行為的研究始自於本實驗室。先前的研究中所使用之模型為一圓柱狀的旋轉水槽，其底板的中心鑿有一個小出水孔(用以產生池盆渦漩)，上板正中則倒置一圓形柱體(期以誘發泰勒柱現象)，而這樣的布置的確導致新的發現。除了固體邊界的艾克曼層及其湧升行為外

，我組測定了圓柱下方與出水孔間的多層渦漩結構，尤其是首度確認了泰勒牆的存在，以及沿其外側爬升的強大泰勒湧升流。本研究將擴大此項研究成果，探討倒置一圓柱於上板中心與其對應於底板的正投影面積在不同於背景之旋轉速率下對泰勒牆的影響。於數值計算模擬的工具使用有限體積分析套裝軟體ANSYS Fluent求解旋轉座標下的不可壓縮Navier-Stokes 方程式的定常解，探討圓柱長度-兩板間距比(h/H)，高度比範圍為0.3、0.5、0.7以及無圓柱作為對照組；圓柱與其對應底面轉速-背景轉速比(ω/&;#8486;)，旋轉速度比之探討範圍由無相對旋轉速度至 8/3。另實驗中的流線與流場分布資訊將以螢光染料

顯影以及粒子影像測速(PIV)的方法測量。研究中發現，當圓柱旋轉的方向與背景旋轉方向相同時，泰勒牆會徑向擴張，且其高度與厚度亦隨著圓柱轉速增加；反之當圓柱旋轉方向與背景旋轉方向相反時，泰勒牆會徑向收縮，其高度與厚度則隨圓柱轉速增加而減少。

高架式點源重質氣體排放於三座直列式方柱之濃度擴散風洞實驗

為了解決等高線地形圖產生器的問題，作者陳柏村 這樣論述：

近年來石化工業與大眾生活息息相關，汙染事件也層出不窮。必須對重質氣體的擴散特性進行進一步的研究，並深入的了解減低傷害與有效的預防是非常值得重視的課題。本研究主要是探討在市郊地形中，在工廠區內多棟建築物對於汙染擴散之影響。利用大氣環境風洞，搭配適當之渦流產生器與粗糙元素，模擬市郊地形之中性大氣邊界層，其指數率風速剖面n值符合Counihan(1975)之建議值。在大氣環境風洞市郊地形中進行模擬連續溢漏重質氣體在不同溢漏源角度、溢漏源高度、建築物與溢漏源距離之因素等12種情形對於汙染物擴散特性之影響。而由實驗結果分析獲得以下結論：(1) 迫近流場其特性符合Counihan(1975)實當時

研究所提出之市郊地形之中性大氣邊界層特性建議值範圍。(2) 當溢漏源高度與建築物等高，濃度容易受到建築物的影響，尤其在溢漏源角度θ = 0°影響最為顯著。當溢漏源高度為1.5H，建物的影響影響較小，(3) 當Hs = H時，不管L為多長，θ = 0°或90°的質心位置都近乎相同，但當Hs = 1.5 H時，會隨著L越長，θ = 0°和90°的質心位置之間的差距會越大。(4) 溢漏源角度θ = 90°，因為是垂直向上噴射，而其擴散特性都較受建築物影響較小，反之溢漏源角度θ = 0°其擴散特性受建築物影響較大。(5) 溢漏源角度θ = 0°在不受建築物影響下，故Y方向擴散相

較於θ = 90°較少一些。(6) 建物的距離的影響程度，將取決於溢漏源高度與角度。溢漏源高度為H與溢漏源角度θ = 0°，受建築物影響最大。反之則受建築物影響較小。(7) 最大濃度變化與各段面呈現線性關係，代表不論何種變數，各斷面的最大濃度均是往越下游處最大濃度越小。(8) 在各種配置的濃度剖面，均符合高斯擴散分佈。

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