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電 漿 產生器的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦張國立寫的 棄業偵探：不會死的人一直在逃亡的億萬富翁 可以從中找到所需的評價。
國立臺灣科技大學 機械工程系 郭俞麟所指導 蔡志旻的 常壓電漿噴射束製備銀銅合金薄膜之研究 （2021），提出電 漿 產生器關鍵因素是什麼，來自於常壓電漿噴射束、銀銅合金、導電薄膜、鍍膜。
而第二篇論文國立清華大學 電機工程學系 吳財福所指導 余淩嘉的 遠程電漿源腔體建模與產生器設計 （2021），提出因為有 諧振逆變器、高功率逆變器、遠程電漿源、電感耦合式電漿源、半導體設備的重點而找出了 電 漿 產生器的解答。
棄業偵探：不會死的人一直在逃亡的億萬富翁
為了解決電 漿 產生器 的問題，作者張國立 這樣論述：
「長生不老被追殺、跑路的都是你，但為何要把我拖下水？！」推理小說界的韋小寶，最倒楣的偵探不甘不願重出江湖！ 奇怪，怎麼從報社離職後，我反而愈來愈忙？ 會讀心術的小女孩、成天混咖啡廳的警官、在龍山寺附近站壁的老女人， 以及一群每滿六十歲就又回到四十歲的不死人， 統統冒出來？！ 這次的客戶是家財萬貫的神祕老翁，以及陸續離奇身亡他自稱為同類的犧牲者！ 失格記者、破格偵探馬可：老兄！你行李箱裡再多現金又怎樣？各方人馬都拿著槍在找我們呀！ 第二案關鍵人物： ◎貧窮痞子男：馬可——一時衝動就遞出辭呈，廚藝絕佳但經常沒錢買菜的無業前記者，為了糊口飯吃不得不接下莫名其妙的玄案，意外
當起偵探。時間多到令所有人抓狂，最強的絕招叫死纏爛打 ◎散財委託人：李易——出手大方，可惜貪生怕死又愛吃，住所比總有三窟的狡兔還多，但全都不敢住，說是有一批人千方百計要找出他，研究出長生不老的祕密！ ◎冷血追殺者：西王母集團——用刀殺了人就在屍體傷口上蓋樹葉幫警方計算傷口數，且留張印著瑤池金母像附上署名的A4紙。咦？可是這些靈壽光、董仲君、姜氏……等名字，怎麼全是些從古書《神仙傳》裡出來，一群活了幾百年的老妖怪。 ◎警察界代表：老宇——因為懶得拍馬屁，所以官運很差的老員警。據說後台很硬，有一個未經證實的傳言說他表哥正在當總統。履試不爽的辦案絕招是「讓他心生恐懼，就什麼都招了。」口頭
禪的開頭是：「馬可，你他媽的○○○！」 ◎關鍵目擊者：HANA——在龍山寺一帶站壁拉客的熟女美人，但號稱服務一次兩千元的流鶯，怎麼能隨手名牌包，還住千萬豪宅？！這其中必定有詐，況且被指證曾與在死者身亡現場附近徘徊的兩名怪客互動過的她，還跟警察說謊—— 那．兩．個．人．只．是．來．問．路．的．啦！ 不知道還能活多久的菜鳥偵探馬可：「要是能找到他，人類會發生革命性的改變。」 作者簡介 張國立 輔大日語系畢業，曾任《時報周刊》總編輯。得過國內各大文學獎項，文筆既可詼諧亦可正經，文學、軍事、歷史、劇本、遊記……等各類題材無一不寫，也無一不精。極可能是本書主角馬可的原型，但不會承認。腦子
像一台故事產生器，善於以文字蠱惑人心。學習過的本事很多，最喜歡寫字。擁有過的頭銜很多，最喜歡作者。行走過的階段很多，最喜歡現在——專職寫作，興趣浪遊。 www.facebook.com/iamctwchang iamctwchang.pixnet.net/blog
常壓電漿噴射束製備銀銅合金薄膜之研究
為了解決電 漿 產生器 的問題，作者蔡志旻 這樣論述：
化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，CVD)，為現在半導體製程薄膜階段主要方式，原因為優良的覆蓋率與可控制薄膜厚度，真空鍍膜的技術發展至今已經相當成熟，而本實驗將使用常壓電漿噴射束來替代傳統的真空電漿，且相較於傳統真空電漿，目前常壓電漿仍有許多可發展性。本實驗將利用氬氣與氫氣混合氣做為主要氣體，氬氣作為次要氣體，並且固定頻率、功率、速度、次數與距離等條件，將改變溶液濃度0.05M與0.1M以及5種不同比例分別為純銀、10%Cu90%Ag、50%Cu50%Ag、90%Cu10%Ag、純銅，在實驗開始時會先使用熱電偶溫度感測儀來量測電漿溫度以便挑選工作距離，接下來使
用光學放射光譜儀(OES)蒐集電漿鍍膜過程所產生出的物種以及自由基，再以場發射掃描式電子顯微鏡(SEM)對觀察表面沉積以及剖面觀測薄膜厚度並且搭配Mapping來更加方便觀測，再使用X光繞射儀(XRD)來檢測表面物種，以及使用X射線螢光光譜儀(XRF)來檢測表面物種比例，最後使用四點探針檢測表面電性，根據本實驗結果可得XRD時銀的峰值明顯偏右，為置換式固融銀的FCC與銅做結合變成類似NaCl的結構，應此氧化銅比例下降，在電性上可以量測到薄膜的電阻，與純銅電阻相差不遠，固本次使用常壓電漿束可成功製成具有良好導電性薄膜。
遠程電漿源腔體建模與產生器設計
為了解決電 漿 產生器 的問題，作者余淩嘉 這樣論述：
本論文設計並研製了一台切換頻率約400 kHz且最高功率達2.5千瓦的遠程電漿源。遠程電漿源已被廣泛應用於晶片製造業中，除了可用於進行沉積與蝕刻以外，亦可應用於反應腔體內部的清潔。當反應腔體內壁堆積了過厚的矽種膜，矽種膜會剝落而污染晶圓，破壞原有的製程步驟。因此週期性的對反應腔體內部進行清潔為不可或缺的流程之一。遠程電漿源於反應腔外部產生可與矽種膜反應之電漿後，通過管線將電漿通入反應腔中，使電漿與矽種膜反應生成為矽種氣體後再將之排出反應腔外，即可完成自動化的清潔流程。本研究所聚焦研究之遠程電漿源，即為使用NF3氣體產生氮氣電漿之乾式清潔電漿源。產生電漿的過程主要分為兩個步驟：點火與持弧。「點
火」為一開始使用電容性放電電漿的形式，以高壓解離墮性氣體如氬氣，進而產生初始的自由電子。而後再供給腔體足夠高的電流及功率，採用電感性耦合電漿的方式，使腔體內的氮氣電漿能持續產生即為「持弧」。而本研究中分別設計了一個5千伏容性負載的高壓輸出逆變器作為「點火器」，用於初始的點火步驟，以及一個2.5千瓦定電流30安培輸出的高功率逆變器作為「維持器」，用以維持不同氣體流量下的氮氣電漿持續產生。為了設計兩台作為不同用途的逆變器，本研究將電漿負載進行了建模。由於電漿源腔體的設計掌控在其他研究者手中，在資訊以及設備有限的情況下，本研究根據灰箱研究的方式，將電漿載轉換成為等效之RLC負載。並且不僅不需使用傳統
電漿侵入式量測設備蘭姆探針，亦將氮氣氣體流量以及操作頻率這兩個影響等效負載關鍵因素的變動納入建模考量。根據所建模之等效電漿負載，作為高壓點火器的半橋諧振逆變器，以及作為高功率維持器的全橋諧振逆變器皆設計並研製。本研究採用瑞薩RX62T做為核心之數位處理器，並做為遠程電漿源之控制器，不僅能控制整個點火到維持的功率輸出流程，亦做為過壓過流保護之用途，以及控制逆變器使能穩定輸出。雖然實際的電漿產生過程中，由於氣體流動以及化學反應等難以控制速度的特性，不會有快速切載的控制需求，但本研究依然設計了回授補償，並且實際使用等效RL負載，進行了單台高功率逆變器的切載測試。而考量到未來電漿源功率擴充之可能性，本
研究亦針對兩台高頻高功率逆變器的並聯使用時之小訊號模型，進行建模並設計控制迴路。其設計結果亦進行了切載模擬並得到良好的控制效果，可做為未來此類高頻逆變器並聯研究之參考。最後，本研究所設計之遠程電漿源，亦實際使用氮氣與氬氣，進行不同氣體流量下的電漿產生測試，並將結果呈現於論文中。本論文的主要貢獻如下: 所設計之遠程電漿源可於不同氮氣流量下穩定輸出電漿。 點火器與維持器完全獨立分開的設計有助於日後維修替換、功率提升甚至是應變不同點火電壓的氣體應用。 所採用之等效電漿負載建模方法，有別於傳統電漿負載量測方式，不僅不需破壞腔體進行侵入式量測，亦不需要昂貴的特殊設備即可進行。
所建模之等效電漿負載，將隨著流量以及切換頻率，而產生之動態變化納入考量，並結合進逆變器的設計過程中。