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國立臺北科技大學 製造科技研究所 汪家昌所指導 戴明杉的 溶劑型漿料法光硬化積層製造系統之迴轉式鋪料開發 (2012),提出epson短焦雷射投影機關鍵因素是什麼,來自於積層製造、溶劑型漿料、陶瓷粉末。

而第二篇論文國立臺北科技大學 機電整合研究所 汪家昌所指導 游信樺的 溶劑型漿料光成型設備鋪料槽內鋪層系統開發 (2011),提出因為有 快速原型、溶劑型漿料、陶瓷粉末的重點而找出了 epson短焦雷射投影機的解答。

最後網站EPSON雷射投影機則補充:EPSON EH-LS300B 大畫面雷射超短焦投影機支援4k(黑色),送無線投影棒,台灣公司貨3年保固。 $66,900 ...

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

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李筱維 米米瘋

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Popdaily 波波黛莉美食打卡媽咪創作者

旅遊作家、影片創作者、攝影師、三寶媽,熱愛料理、美食、旅遊與攝影,目前環遊世界30個國家。 2個月歐洲自助遊10國、日本2個月1打2大東京親子遊、1個月日本全國親子環遊、中國、東北亞、東南亞國家多年採線採訪、海外置產賞屋、購物旅遊美食分享。
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溶劑型漿料法光硬化積層製造系統之迴轉式鋪料開發

為了解決epson短焦雷射投影機的問題,作者戴明杉 這樣論述:

本研究主要在於建立全新可製作陶瓷工件的溶劑型光硬化成型(Solvent-based Slurry Stereolithography, 3S)系統,別於已往之往復式積層製造製程,採用全新迴轉式作動製程(revolving paving mechanical),提升製程速度與穩定度,維持或降低原料之消耗。本研究在系統設計上,加入模組化設計、產量擴充插槽,以及多方面常規設計,以降低機台與維護成本,本研究在於完成溶劑型光硬化成型系統之模組化與量產化概念,達到實質穩定之目的本研究積層製造製程透過模組化設計,分為:鋪層機構組、升降機構組、投影光罩組,以及自動控制組,四大組合,相較於之前研究的鋪層不穩定

問題,本研究成功提升鋪層之穩定性問題,全系統已達成相當高的製程完成度,由於全新迴轉式鋪層系統設計,一圈作動中,包括了乾燥、曝光、平板下降、下料、及鋪層之全部過程,可不間斷連續運作,大幅縮短製程時間,透過8倍近攝鏡可將對焦距離縮短至130mm,而得縮小比例的成像,增加成像的解析度,也同時產生能量集中的效果,大幅縮短光照時間;模組化的效益,可在當不同部位損毀或想更換不同系統時,直接更換其一機組,大幅縮短整理與維修的時間與複雜度,為往後系統提供改良與提升空間。

溶劑型漿料光成型設備鋪料槽內鋪層系統開發

為了解決epson短焦雷射投影機的問題,作者游信樺 這樣論述:

本研究主要在於改善溶劑型光硬化成型(Solvent-based Slurry Stereolithography, 3S)系統的缺點,之前的研究中李[1]所架設的機台已可以成功的製作出陶瓷工件,並由陳[2]整合成自動操作的程序與改善鋪層系統,雖然陳[2]的新式刮刀可改善漿料殘留的問題,但會有廢料產生過多的問題,因而造成材料大量的浪費。本研究主要為改善原先機台所遇到的問題,並表現在新的機台上。在鋪層系統上,本研究以新式供料槽式刮刀作鋪層,讓漿料在鋪層時一直保持在供料槽內,使漿料得到最大利用,減少漿料浪費的問題,與舊有的機台相比,可節省約2.9倍的漿料;在Z軸升降機構的精準度上,改以五相步進馬達

搭配導螺桿與線性滑軌,讓升降機構的精準度更高,並可提供更小的移動量,也決解了舊有機台上,因導螺桿直接與線性滑軌組接而產生的彎矩問題;在XY平面的解析度上,原有投影機之成像距離有所限制,無法將更細緻的特徵表現出來,透過加裝近攝鏡可將對焦距離縮短,而得到放大比例的成像,即可增加投影機的解析度,並且還有能量集中的效果,可縮短光照時間。