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plasma表面處理原理的問題,我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍,推薦李克駿,李克慧,李明逵寫的 半導體製程概論(第四版) 和孟繼洛,許源泉,黃廷合,施議訓,李勝隆,汪建民,黃仁清,張文雄,蔡忠佑,林忠志的 現代機械製造都 可以從中找到所需的評價。

另外網站Ahlbrandt®电晕处理|宝德威技术公司也說明:用于印刷和工业应用的电晕处理系统,如薄膜和片材挤出,以及纺织品。 ... 电晕处理系统的工作原理是增加塑料薄膜、纸张和箔等材料的表面能量,使其在印刷或涂布时能 ...

這兩本書分別來自全華圖書 和全華圖書所出版 。

逢甲大學 材料科學與工程學系 梁辰睿所指導 黃冠諭的 應用自開發之程序控制系統於電漿電解氧化製程以探討氧化膜性能提升機制之研究 (2021),提出plasma表面處理原理關鍵因素是什麼,來自於多階段程序控制系統、微弧氧化技術(電漿電解氧化技術)、Mn: TiO2光觸媒、表面改質、製程優化。

而第二篇論文大同大學 機械與材料工程學系(所) 邱六合所指導 宋品震的 不同接觸壓力對表面硬化鑄鐵之磨耗研究 (2021),提出因為有 接觸壓力、氣體軟氮化、冷處理、線上回火、高週波、鑄鐵、磨耗的重點而找出了 plasma表面處理原理的解答。

最後網站Research - 奈米光電及高分子光學實驗室則補充:藉由Schlieren觀測系統來討論演化過程,其原理則是利用密度的變化而導致折射率的 ... 電漿離子化環境在表面處理的應用上,因為高密度的帶電粒子將提高參與反應的氣體 ...

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了plasma表面處理原理,大家也想知道這些:

半導體製程概論(第四版)

為了解決plasma表面處理原理的問題,作者李克駿,李克慧,李明逵 這樣論述:

  全書分為五篇,第一篇(1~3章)探討半導體材料之基本特性,從矽半導體晶體結構開始,到半導體物理之物理概念與能帶做完整的解說。第二篇(4~9章)說明積體電路使用的基礎元件與先進奈米元件。第三篇(10~24章)說明積體電路的製程。第四篇(25~26章)說明積體電路的故障與檢測。第五篇(27~28章)說明積體電路製程潔淨控制與安全。全書通用於大專院校電子、電機科系「半導體製程」或「半導體製程技術」課程作為教材。 本書特色   1.深入淺出說明半導體元件物理和積體電路結構、原理及製程。   2.從矽導體之物理概念開始,一直到半導體結構、能帶作完整的解說,使讀者學習到全盤知識

。   3.圖片清晰,使讀者一目瞭然更容易理解。   4.適用於大學、科大電子、電機系「半導體製程」或「半導體製程技術」課程或相關業界人士及有興趣之讀者。

應用自開發之程序控制系統於電漿電解氧化製程以探討氧化膜性能提升機制之研究

為了解決plasma表面處理原理的問題,作者黃冠諭 這樣論述:

誌謝 I中文摘要 II英文摘要 IV目次 VI圖目次 X表目次 XVIIIChapter.1 前言 11.1 電漿電解氧化技術的發展背景 11.2 研究動機 4Chapter.2 電漿電解氧化處理 52.1 電漿電解氧化(PEO) 52.1.1 電漿電解氧化機制原理 62.1.2 膜層電擊穿機制 112.1.3 電漿電解氧化之電源參數影響 152.1.4 PEO製程的物理/化學反應機制 182.2 PEO氧化膜層特性 252.2.1 膜層的反應與形成機制 252.2.2 PEO處理中常見的基材金屬 292.3 PEO製程常見的電解

質成分 342.4 程序控制法 382.5 應用於Mn摻雜TiO2光催化劑薄膜 402.5.1 揮發性有機汙染物 402.5.2 光催化反應機制 412.5.3 Mott-Schottky方程 442.5.4 二氧化鈦光觸媒 462.5.5 二氧化鈦光觸媒的製備方法 512.5.6 提升二氧化鈦光觸媒光吸收效能之技術 542.6 應用於HA與L乳酸鈣於生醫改質氧化膜層 572.6.1 PEO於生醫改質之發展與應用 572.6.2 PEO生醫改質中常見的金屬植體 582.6.3 氫氧基磷灰石與L-乳酸鈣於生醫改質之用途 592.7 研究目的與實

驗規劃 61Chapter.3 程序控制法於PEO製程之應用 633.1 實驗方法 633.1.1 程序控制系統與設備 633.1.2 實驗設計 643.1.3 Mn: TiO2光催化劑實驗流程設計 683.1.4 以懸浮液搭配程序控制PEO製備TiO2膜層之流程設計 713.1.5 以離子溶液液搭配程序控制PEO製備TiO2膜層之流程設計 743.2 實驗基材選用與藥品準備 773.3 程序控制法於PEO製程基本分析 793.3.1 電源系統監控分析 793.3.2 膜層表面形貌與成分分析 793.3.3 孔徑與孔隙率分析 793.3.4

晶體結構相組成分析 803.3.5 紫外光-可見光吸收光譜分析 813.3.6 載子濃度分析 813.3.7 X射線光電子能譜分析 823.3.8 懸浮微粒之粒徑大小分析 83Chapter.4 多階段程序控制於PEO處理製備摻雜Mn: TiO2光催化劑 844.1 Mn: TiO2光催化劑特性探討 844.1.1 第一步驟製程設計對二氧化鈦膜層影響 844.1.2 不同含浸濃度錳離子對於二氧化鈦特性比較 904.1.3 不同電源模式含錳離子之二氧化鈦特性差異 1034.1.4 含浸法對錳離子含量之影響與離子機制之探討 1144.2 光觸媒催化效能測

試 119Chapter.5 以懸浮液搭配多階段程序控制PEO進行TiO2膜層製備 1215.1 HA於多階段程序控制PEO之影響 1215.1.1 單階段程序控制於PEO膜層特性之探討 1215.1.2 雙階段程序控制於PEO膜層特性之探討 1225.1.3 多階段程序控制於PEO膜層特性之探討 1295.2 HA於增加陽極氧化前處理之影響 1415.2.1 陽極處理膜層之特性探討 1415.2.2 陽極處理-多階段程序控制PEO膜層特性探討 142Chapter.6 以離子溶液搭配多階段程序控制PEO進行TiO2膜層製備 1626.1 電解液A於PE

O不同階段製程之膜層特性探討 1626.1.1 電解液A之乳酸鈣於雙階段PEO製程影響 1626.1.2 電解液A之乳酸鈣於三階段PEO製程影響 1706.2 電解液B於PEO不同階段製程之膜層特性探討 1736.2.1 電解液B之乳酸鈣於雙階段PEO製程影響 1736.2.2 電解液B之乳酸鈣於三階段PEO製程影響 182Chapter.7 結論與未來展望 1917.1 結論 1917.2 未來展望 192參考文獻 193

現代機械製造

為了解決plasma表面處理原理的問題,作者孟繼洛,許源泉,黃廷合,施議訓,李勝隆,汪建民,黃仁清,張文雄,蔡忠佑,林忠志 這樣論述:

  本書針對學習機械工程及工業工程讀者,規劃自基本製造各項工作開始,再逐漸深入至各種特殊加工方法,再至各種自動化技術,使研讀過本書後能對機械製造方法及程序有一整體性認識,具有現代機械製造的觀念,在進入職場後即能進入工作情況,使業界認為係一具有工作能力的工程人員。   每一項機械製造工作,都是專門性的知識及技術,為了使本書具有各領域的適當深度及前瞻性,特別分別邀請擔任各領域的資深老師或業界專家執筆,就其多年教學及工作經驗,以淺顯易懂的文筆,陳述該項工作的精髓,並附以習題作業,以便作學習後的測驗,無論就講授者或學習者,應為一學習現代化機械製造知識與技術兼具的學習工具。為適應不

同程度學習者,本書作者編列有深及淺不同層級的內容,教師可就需要作選擇性教學。 本書特色   1.有介紹「智慧化製造」和「工業4.0」,讓讀者學習「現代化機械製造」及其未來的知識與技術。   2.由機械製造各領域的資深老師與業界專家,就其多年教學及工作經驗編寫而成。   3.從基本製造工程材料開始,再逐漸深入至各種特殊加工方法,再至各種自動化技術,以淺顯易懂的文筆,並附上章末習題,讓讀者可學習機械製造整體知識與技術。   4.有深及淺不同層級的知識內容,教師可就需求作選擇性教學。

不同接觸壓力對表面硬化鑄鐵之磨耗研究

為了解決plasma表面處理原理的問題,作者宋品震 這樣論述:

本研究探討FC350波來體基片墨鑄鐵與FCD450肥粒體基球墨鑄鐵兩種原料經過氣體軟氮化處理、不同的沃斯田鐵化溫度為840℃、880℃和940℃油淬後分別再進行200℃低溫回火後以及調質後再去做氣體軟氮化等三種製程的組織與硬度特性,並討論不同荷重的接觸壓力下對於其磨耗性能的影響。FC350波來體基灰鑄鐵塊材表面做高週波淬火感應硬化後,並分別做高週波線上回火以及4°C冰水冷處理,對FC350灰鑄鐵感硬硬化層組織及硬度特性之比較,並針對各種階段測試之高週波參數熱處理件之殘留沃斯田體含量及殘留應力進行量測,再進行硬度檢測及有效硬化深度、表面硬化層和心部組織觀察。 實驗結果顯示FC350與FC

D450經過840℃淬火回火後,其組織為淬火回火麻田散體,FCD450還可觀察到許多殘留肥粒體,而經過880℃和940℃淬火回火後,可以觀察到白色殘留沃斯田體的開始出現,但FCD450在880℃淬火回火後還是有些許的殘留肥粒體存在,隨著沃斯田體化溫度越高,殘留沃斯田體區域會越多。微硬度檢測可以發現兩種原料不管是否有調質,白色氮化層厚度皆約10μm且硬度都大於950HV。磨耗試驗發現兩種鑄鐵淬火回火後有著起始壓力增加,重量損失增加;沃斯田體化越高,重量損失減少的趨勢,但FC350在940℃淬火回火後有大量殘留沃斯田體,故重量損失反而增加。而氣體軟氮化處理之兩種試片,有無經過調質的試片重量損失相差

不大,所以並不用先調質再去做氣體軟氮化,也能得到良好的磨耗效益。 針對FC350灰鑄鐵使用功率6.4KW載台移速85(0.8mm/s)之淬火試片之硬化層硬度最高為775HV0.3,有效硬化深度(550HV)約為2250μm,殘留沃斯田體含量高達20.9%。功率5.1KW載台移速120(0.8mm/s)之線上回火試片硬化層硬度仍可以保持在600HV0.3(55HRC)以上,殘留沃斯田體含量可以下降至3%以下。經過4℃冰水冷處理20分鐘再使用空氣爐180℃低溫回火一小時,也可以降低殘留沃斯田體含量至11.5%。由磨耗試驗證實高週波感應硬化後之試片相較於原材能增加其耐磨性,經過線上回火與冷處理

過後會降低殘留沃斯田體含量,磨耗效益更優於高週波淬火過後之試片。