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cvd設備的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦柯賢文 寫的 表面與薄膜處理技術(第四版) 和柯賢文的 表面與薄膜處理技術(第三版)都 可以從中找到所需的評價。
另外網站等离子体cvd设备、形成薄膜的方法及半导体装置 - Google ...也說明：提供了一种等离子体CVD设备，所述等离子体CVD设备包括：具有用于供给具有环硼氮烷骨架化合物的入口(5)的反应室(1)；设置在反应室(1)中的供电电极(7)，用于支承衬底(8) ...
這兩本書分別來自全華圖書 和全華圖書所出版 。
淡江大學 物理學系碩士班 林諭男所指導 徐偉揚的 電漿處理對超奈米晶鑽石薄膜電子場發射特性的影響 （2016），提出cvd設備關鍵因素是什麼，來自於超奈米晶鑽石、化學汽相沉積。
而第二篇論文國立臺南大學 材料科學系碩士班 林宏一所指導 劉智坤的 石墨烯結合氧化鋅奈米柱的光電感測元件 （2016），提出因為有 石墨烯、氧化鋅、光電感測元件的重點而找出了 cvd設備的解答。
最後網站ALD,原子層沉積技術及應用 - 大永真空設備則補充：原子層沉積(Atomic Layer Deposition，ALD)最早稱為原子層磊晶(Atomic Layer Epitaxy，ALE)，ALD也是一種化學氣相沉積技術(CVD)，與傳統CVD的差異在於：ALD是將一個 ...
表面與薄膜處理技術(第四版)
為了解決cvd設備 的問題，作者柯賢文 這樣論述：
固體材料的表面問題既已發展成一非常多樣化的科技，很多出版的參考書籍以專題深入探討或以工具書出現，不易為初學者所接受，也不適宜當教材之用。因此作者就重要的問題分成十二章討論。這十二章的結構實際上可以看成五個部份，第一部份為基礎篇，這些都是乾式氣相表面處理最常面臨的技術。第二部份為氣相技術篇，乃常見的乾式氣相表面處理技術。第三部份為液相技術篇，亦即最傳統的表面處理技術，包括無極鍍、化成、取代及電鍍和電鑄，陽極處理實際上相等於電化學反應的化成作用。第四部份為薄膜篇，包括薄膜的成長及微結構、薄膜的特性及量測。第五部份為前瞻篇，它們已脫離常見表面技術的章節，其中有微機電系統、奈米技術及表面的物理
化學性質。本書適合大學、科大、技術學院機械工程、電機、電子材料、化學工程科系『薄膜技術』課程使用。 本書特色 1.固體材料的表面問題已發展成一非常多樣化的科技，本書內容以深入淺出的方式表達，使其成為最適宜的教材。 2.作者就重要問題分成十二章討論，共分為五大部分為；基礎篇、氣相技術篇、液相技術篇、薄膜篇與前瞻篇，內容精選，整理完善。 3.適合大學、科大、技術學院機械工程、電機、電子材料、化學工程科系『薄膜技術』課程使用。
電漿處理對超奈米晶鑽石薄膜電子場發射特性的影響
為了解決cvd設備 的問題，作者徐偉揚 這樣論述：
鑽石擁有高硬度、極佳耐磨耗、良好場發射性、高導熱等優點。應用在表面聲波元件、微機電元件、生醫材料、場發射元件等材料，薄膜是需要的良好場發射性、導電性鑽石。鑽石薄膜依據表面形貌可以分為微晶鑽石（MCD）、奈米晶鑽石（NCD）、超奈米晶鑽石（UNCD），其中超奈米晶鑽石具備更低的良好場發射性、表面粗糙度及較佳的導電性質。 在我們成長鑽石薄膜所使用的系統(Innovative Plasma system,IPLAS)，是屬於微波電漿輔助化學汽相沉積法(Microwave Plasma enhanced Chemical Vapor Deposition, MPECVD)。一般而言，我們
用一定比例的氬氣及甲烷來成長UNCD，但後來發現，當我們將成長好的UNCD再進行不同氣氛的微波電漿處理，薄膜的場發射特性優於原本的UNCD薄膜。因此我們藉由拉曼光譜、電漿光發射光譜、掃描式電子顯微結構、穿透式電子顯微結構、電子能量損失譜等，來探討當我們對UNCD進行微波電漿處理後，對其微結構以及場發射特性有著什麼樣的變化。 本實驗針對不同的鑽石薄膜基板分別進行甲烷/氬氣/氫氣及甲烷/氮氣兩種混合氣體電漿並施加偏壓處理後，觀察發現場發射起始電場呈現相同趨勢的變化，利用穿透式電子顯微鏡觀測樣品，加上場發射起始電場與霍爾量測等結果，顯示出使用電漿處理對於不同薄膜基板造成改質或是成長之程度有所不同，
發現以小顆粒鑽石晶粒為主且擁有充足晶界空間之鑽石薄膜對於其改質的效果越好，改善電子場發射特性的效果最佳。
表面與薄膜處理技術(第三版)
為了解決cvd設備 的問題，作者柯賢文 這樣論述：
固體材料的表面問題既已發展成一非常多樣化的科技，很多出版的參考書籍以專題深入探討或以工具書出現，不易為初學者所接受，也不適宜當教材之用。因此作者就重要的問題分成十二章討論。這十二章的結構實際上可以看成五個部份，第一部份為基礎篇，這些都是乾式氣相表面處理最常面臨的技術。第二部份為氣相技術篇，乃常見的乾式氣相表面處理技術。第三部份為液相技術篇，亦即最傳統的表面處理技術，包括無極鍍、化成、取代及電鍍和電鑄，陽極處理實際上相等於電化學反應的化成作用。第四部份為薄膜篇，包括薄膜的成長及微結構、薄膜的特性及量測。第五部份為前瞻篇，它們已脫離常見表面技術的章節，其中有微機電系統、奈米技術及表面的物理化學
性質。本書適合大學、科大、技術學院機械工程、電機、電子材料、化學工程科系『薄膜技術』課程使用。 第1章 緒 論一、表面處理的意義二、表面處理的應用 三、表面處理的分類 四、技術選用考量因素五、結 語 第2章 基本設備一、溫度的量測 二、真空系統 第3章 認識電漿一、電漿的產生 二、電漿的特性 三、電漿的化學反應 四、電漿在表面技術上的應用 第4章 物理蒸鍍一、熱力學 二、氣體動力學 三、蒸 鍍 四、蒸鍍設備 五、合金蒸鍍六、化合物蒸鍍 七、應 用 第5章 濺射鍍膜一、前 言 二、粒子的撞擊 三、動能的轉移 四、撞擊效應 五、濺射的方法 六、濺射係數 七、濺射鍍膜技術 八、靶 材 九
、濺鍍和熱蒸鍍的比較 十、應 用 第6章 化學氣相蒸鍍一、前 言 二、化學問題 三、熱力學的問題 四、化學動力學的問題 五、CVD設備及系統 六、應 用 第7章 液相表面處理一、前 言 二、前處理 三、無極電鍍 四、取代反應 五、化成被覆 六、電 鍍 七、陽極處理 八、電 鑄 九、廢水處理 第8章 薄膜的成長及微結構一、前 言 二、表面前清理 三、薄膜的成長 四、微結構 五、磊 晶 第9章 薄膜特性及量測一、前 言 二、厚 度 三、薄膜特性 四、表面分析儀器 五、其他表面分析儀器 第10章 表面蝕刻及微機電系統一、圖樣化及蝕刻 二、微機電系統 三、矽製程 第11章 奈米技術一、奈米
材料 二、奈米科技發展史 三、奈米合成和表面技術 四、奈米材料之特徵五、奈米材料之應用 六、結 語 第12章 表面的物理化學性質一、前 言 二、表面張力 三、電 濕 四、L-B薄膜
石墨烯結合氧化鋅奈米柱的光電感測元件
為了解決cvd設備 的問題，作者劉智坤 這樣論述：
摘要氧化鋅奈米柱是適用於建構電子元件的材料之一，近期常用來製作不同形式的光感測元件，其主要是因為氧化鋅是一種寬能隙半導體材料，對紫外光具有吸收的性質，且製程方式簡易成本又低適合運用在光電元件上，但因氧化鋅對一般的金屬電極的接觸電阻較大，需要驅動的工作電壓大。此外，對紫外光激發的反應時間常數大，影響其光電感測元件的實用性。由於石墨烯本身具有優異的電子遷移率、低電阻等特點，運用在電子元件製作上帶來許多優勢。本研究利用石墨烯的柔韌性與導電性的優點，將其做為金電極與氧化鋅單晶奈米柱之間的架接橋梁，以改善氧化鋅奈米柱本身的缺點，製作出簡易高效率的紫外光感測元件，並探討此元件在真空環境下其光電性質的變化
。本研究製作出的光感測元件能在低至0.5V的電壓下操作，且有良好的靈敏度較快的反應時間及再現性，將此光電感測研究的成果應用在穿戴型裝置上是具有潛力的。