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Cardiovascular Complications of Chronic Rheumatic Diseases, an Issue of Rheumatic Disease Clinics of North America: Volume 49-1

為了解決cvd的問題，作者 這樣論述：

In this issue of Rheumatic Disease Clinics, guest editors Drs. M. Elaine Husni and George A. Karpouzas bring their considerable expertise to the topic of Cardiovascular Complications of Chronic Rheumatic Diseases. Top experts in the field cover key topics such as primary and secondary atheroscler

otic cardiovascular (ASCVD) risk prevention in the rheumatic disease, pro-thrombotic and pro-atherogenic anti-phospholipid antibodies, recommendations for the use of NSAIDs and CVD risk, and more.Contains 9 relevant, practice-oriented topics including atherosclerotic cardiovascular risk stratificati

on in the rheumatic diseases; subclinical atherosclerosis evaluation across various vascular territories; lessons from heart and large vessel biopsies in patients with and without autoimmune rheumatic disease; the role of lipoprotein levels and function in atherosclerosis associated with autoimmune

rheumatic diseases; and more. Provides in-depth clinical reviews on cardiovascular complications of chronic rheumatic diseases, offering actionable insights for clinical practice. Presents the latest information on this timely, focused topic under the leadership of experienced editors in the field.

Authors synthesize and distill the latest research and practice guidelines to create clinically significant, topic-based reviews.

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二維材料於邏輯元件與記憶體內運算應用

為了解決cvd的問題，作者鍾昀晏 這樣論述：

半導體產業在過去半個世紀不斷地發展，塊材材料逐漸面臨電晶體微縮的物理極限，因此我們開始尋找替代方案。由於二維材料天生的原子級材料厚度與其可抑制短通道效應能力，被視為半導體產業極具未來發展性材料。此篇論文為研究二維材料二硫化鉬的N型通道元件之製作技術與其材料的特性與應用。首先，我們使用二階段硫化製程所製備的二硫化鉬沉積高介電材料並使用X-射線能譜儀（XPS）與光致發光譜（PL）進行分析，量測二硫化鉬與四種高介電材料的能帶對準，參考以往製程經驗，可結論二氧化鉿是有潛力介電層材料在二硫化鉬上，並作為我們後續元件的主要閘極介電層。接著使用二階段硫化法製作鈮（Nb）摻雜的二硫化鉬，Ｐ型的鈮摻雜可提升載

子摻雜濃度用以降低金半介面的接觸電阻，透過不同製程方式製作頂部接觸和邊緣接觸的兩種金半介面結構，傳輸線模型(TLM)分析顯示出，邊緣接觸結構比頂部接觸結構的接觸電阻率低了兩個數量級以上，並藉由數值疊代方式得知層間電阻率是導致頂部接觸結構有較高接觸電阻率主因，並指出邊緣接觸之金半介面在二維材料元件的潛在優勢。在電晶體研究上，我們使用化學氣相沉積（CVD）合成的二硫化鉬成功製作出單層Ｎ型通道元件，將此電晶體與記憶體元件相結合，用雙閘極結構將讀（read）與寫（write）分成上下兩個獨立控制的閘極，並輸入適當脈衝訊號以改變儲存在電荷儲存層的載子量，藉由本體效應（Body effect）獲得足夠大的

記憶區間（Memory window），可擁有高導電度比（GMAX/GMIN = 50）與低非線性度（Non-linearity= -0.8/-0.3）和非對稱性（Asymmetry = 0.5），展示出了二維材料在類神經突觸元件記憶體內運算應用上的可能性。除了與記憶體元件結合外，我們亦展示二維材料電晶體作為邏輯閘的應用，將需要至少兩個傳統矽基元件才可表現的邏輯閘特性，可於單一二維材料電晶體上展現出來，並在兩種邏輯閘（NAND/NOR）特性作切換，二維材料的可折疊特性亦具有潛力於電晶體密度提升。我們進一步使用電子束微影系統製作奈米等級短通道元件，首先使用金屬輔助化學氣相沉積 (Metal-as

sisted CVD)方式合成出高品質的二維材料二硫化鎢 (WS2)，並成功製作次臨界擺幅（Subthreshold Swing, S.S.）約為97 mV/dec.且高達106的電流開關比（ION/IOFF ratio）的40奈米通道長度二硫化鎢Ｐ型通道電晶體，其電特性與文獻上的二硫化鉬N型通道電晶體可說是相當，可作為互補式場效電晶體。另一方面，深入了解二維材料其材料特性後，可知在厚度縮薄仍可保持極高的機械強度，有潛力作為奈米片電晶體的通道材料。故於論文最後我們針對如何透過對元件製作優化提供了些許建議。

圖解內科護理學(2版)

為了解決cvd的問題，作者周心如,方宜珊,黃國石 這樣論述：

　　內科護理學是大專院校護理科系的必修課程，是有關認識疾病及其預防和治療、護理病人、促進康復、增進健康的科學。內科護理學在臨床護理學的理論和實務中具有重要的價值，它是臨床各科護理學的基礎與關鍵。   　　本書能夠使大專院校護理科系學生培養和提昇病情的觀察力，掌握並運用護理程序對病人執行整體性護理，以及對內科常見急重症的配合搶救能力；同時注重培養學生分析與解決問題的能力，引導學生整合理論與實務，解決臨床護理的問題，並讓學生確實掌握專技高考護理師考試的命題重點，也為其他的臨床護理學課程打下堅實的基礎。

以第一原理量子傳輸理論研究在介面處有取代硫處理之二硫化鎢電晶體

為了解決cvd的問題，作者陳竑任 這樣論述：

矽基互補式金氧半場效電晶體的持續微縮遭遇短通道效應的限制，此限制從過去到未來的發展導致了一連串的問題。包含汲極引發位障降低(Drain-induced Barrier Lowering, DIBL)、閘極引發漏電(Gate-induced Drain Leakage, GIDL)、擊穿(Punch-Through)、載子遷移率下降等等。在各種可能使電晶體微縮至1nm節點以下的新穎通道材料中，具原子尺度的二維材料不僅直觀上可克服短通道效應，使電晶體更進一步微縮，同時仍保持高載子遷移率。單原子層WS2為一種最常被研究的過渡金屬二硫族化合物(TMD)材料，實驗上已被作為電晶體的通道材料來使用，並展

示出高電流開關比、高載子遷移率及高熱穩定性。發展WS2電晶體最迫切的挑戰在於降低接觸電阻，在本論文中，我們施以第一原理量子傳輸計算來研究Metal/WS2與Metal/WSX/WS2側接觸，試圖以硫族元素之取代來降低蕭特基位障，因此減少接觸電阻。在此該取代使用了五族或七族元素取代單層WS2一側部分區域之硫族元素，產生超材料WSX (X= P, As, F, Cl, Br)的部分。另外，我們進一步比較該取代在界面金屬化與界面鍵結以及其在蕭特基位障的效果。如此之WSX緩衝接觸展示了p型Pt/WSP/WS2側接觸和n型Ti/WSCl/WS2側接觸的接觸電阻分別低至122.4Ω∙μm與97.9Ω∙μm

。此外，我們也利用第一原理分子動力學觀測到室溫下穩定的單層WSX。